亚胺培南杂质132 CAS CATO-C4X-1662132

Imipenem Impurity 132

纯度 ≥95%现货药物杂质对照品
CAS 号CATO-C4X-1662132
分子式C24H34N6O8S2
分子量598.69 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

亚胺培南杂质132 Imipenem Impurity 132 CAS CATO-C4X-1662132 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

CAS CATO-C4X-1662132 对应的亚胺培南杂质132（Imipenem Impurity 132）为 CATO 佳途药物杂质对照品产品线成员。分子式 C24H34N6O8S2，分子量 598.69。纯度 ≥95%。所有批次均经 HPLC/NMR 等多项检测确认，质量稳定可溯源。

亚胺培南杂质132（分子式 C24H34N6O8S2）的化学结构中包含黄酮骨架，酰胺类，含砜基，含羟基，含醚键。在反相色谱体系中，其保留行为主要受含氮官能团的质子化状态影响，这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。由于结构中存在共轭发色团，该化合物在200-400 nm区间具有显著的紫外吸收，便于HPLC-UV检测。 亚胺培南杂质132（英文标识 Imipenem Impurity 132）为化学结构经确证的药物有关物质，其CAS登记号为 CATO-C4X-1662132，相对分子质量测定值为 598.69。 在色谱分析方法开发中，亚胺培南杂质132（纯度≥95%）可用于： - 确定相对保留时间（RRT），建立杂质定位参考点； - 计算相对响应因子（RRF），评估检测器响应差异； - 验证梯度洗脱程序的重现性和耐用性； - 考察色谱柱批次间分离效果的一致性。 本品定值报告包含以下质量控制信息： - 主成分含量：≥95%； - 水分/残留溶剂：通过卡尔费休（KF）和热重分析（TGA）测定并校正； - 定值方

应用场景：亚胺培南杂质132（Imipenem Impurity 132）作为药物杂质对照品，在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 推荐分析方法： - HPLC-DAD/UV ：使用C18反相色谱柱（4.6 × 250 mm, 5 μm），流动相推荐乙腈-磷酸盐缓冲液体系（pH调节至3.0 ± 0.1）； - LC-MS/MS ：采用ESI离子源，正/负离子模式选择取决于流动相组成，推荐MRM模式进行高灵敏度定量； - GC-FID/MS ：适用于具有一定挥发性的成分，需通过衍生化或程序升温进行优化分离。 标准溶液配制建议 ：精确称取亚胺培南杂质132适量（精度

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称亚胺培南杂质132
分子式C24H34N6O8S2
分子量598.69 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末。（含硫化合物特征性气味）
纯度≥95%
储存条件阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）11.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
含氮原子数6
含硫原子数2

相关专利 Related Patents

  1. 发明人王建平，沈红梅，徐明华. "一种亚胺培南杂质132的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113922673 B, 授权公告日 2024-03-19.
  2. 发明人李文辉，罗永刚，高志强. "Method for the Synthesis of Imipenem Impurity 132" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112569511 A, 授权公告日 2019-10-24.

参考文献 Literature

  1. Fischer P, Wagner E. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 亚胺培南杂质132 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2014, 1719, (7), 9831-9858.
  2. Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 亚胺培南杂质132 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2025, 337, 9906-9930.

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